高性能半導體級硅片研磨液 產(chǎn)品說(shuō)明 TTV 是美國公司研發(fā)的新一代研磨液。 　TTV 相比較傳統產(chǎn)品，極大地提高了懸浮性，即使將流量降低50%，研磨后晶體與硅片表面的形貌 仍極佳。 因每位客戶(hù)的工藝過(guò)程不盡相同，如果您在試用過(guò)程中有任何問(wèn)題，請與我們的技術(shù)服務(wù)部門(mén)聯(lián)系，我們 將為您提供具體的建議。 產(chǎn)品特性 1. 相比同類(lèi)產(chǎn)品，可降低50%流量 2. 減少總厚度偏差 3. 極好的懸浮性 4. 極強的帶漿能力 5. 良好地潤滑性，減少刮傷 6. 可用于研磨12寸的大直徑硅片 主要指標 外觀(guān)： 顏色： 味道： 密度- (G/CC)：1.00 - 1.03   折光率：1.3550 - 1.3750   粘度Brookfield@ 25ºC (cps)：42,000 - 47,000   pH值：8.80 - 9.30   BOD5 @ 5% (grams oxygen/gram) 0.002   COD @ 5% (grams oxygen/gram) 0.01   透明膠狀 水白色 無(wú)味 AQ TTV 研磨漿配漿比例—初始配方: 將AQ TTV 用于研磨時(shí)，初始配方建議為： AQ TTV 去離子水 FUJIMI研磨粉 2－4% 余量 20% 典型混合步驟: 1. 在200升的不銹鋼底容器中，加入100升去離子水，用帶有15cm的低速螺旋攪拌槳進(jìn)行攪拌； 2. 開(kāi)始攪拌，轉速為400-500轉/分； 3. 一邊攪拌一邊往容器中緩慢加入30kg研磨粉。（通過(guò)金屬篩網(wǎng)加入研磨粉會(huì )更加均勻，無(wú)結 塊）； 4. 轉速保持400-500轉/分，混合12分鐘； 5. 待氣泡消退； 6. 加入7升AQTTV； 7. 轉速調為100-200 轉/分，混合15分鐘； 8. 將研磨漿加入機器的漿槽中。 清洗： 我公司建議您使用本公司Ultraclean E 或Ultraclean 1435 A 或Ultraclean 04K 清洗劑來(lái)清洗 硅片表面的研磨漿。 如果您使用其它品牌的清洗液，我們的技術(shù)服務(wù)部門(mén)也十分樂(lè )意與您共同探討。 包裝: 275加侖（1040升）塑料桶包裝，55加侖（208升）塑料桶包裝，6加侖（25升）塑料桶包 裝。 貯藏: 貯存溫度為5º- 35ºC。