氧化鈰的拋光機制

CeO2顆粒的硬度并不高，如下表所示，氧化鈰的硬度遠低于金剛石、氧化鋁，也低于氧化鋯和氧化硅，與三氧化二鐵相當。因此僅從機械方面來看，以低硬度的氧化鈰去拋光基于氧化硅的材料，如硅酸鹽玻璃、石英玻璃等，是不具有技術(shù)可行性的。但是氧化鈰卻是目前拋光基于氧化硅材料甚至氮化硅材料的較好拋光粉。可見氧化鈰拋光還具農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系械作用之外的其他作用。常用研磨、拋光材料的硬度材料金剛石在CeO2晶格中通常會出現(xiàn)氧空位使得其理化性能發(fā)生變化，并對拋光性能產(chǎn)生一定的影響。常用的氧化鈰拋光粉中均含有一定量的其他稀土氧化物，氧化鐠（Pr6O11）也為面心立方晶格結(jié)構(gòu)，可適用于拋光，而其他鑭系稀土氧化物沒有拋光能力，它們可在不改變CeO2晶體結(jié)構(gòu)的條件下，在一定范圍內(nèi)與之形成固溶體。對高純納米氧化鈰拋光粉（VK-Ce01）而言，氧化鈰（VK-Ce01）的純度越高,拋光能力越大,使用壽命也增加,特別是硬質(zhì)玻璃和石英光學鏡頭等長時間循環(huán)拋光時,以使用高純度的氧化鈰拋光粉（VK-Ce01）為宜。

氧化鈰拋光粉的應用：

氧化鈰拋光粉（VK-Ce01），主要用于玻璃制品的拋光，其主要應用于以下領域：

1.  眼鏡、玻璃鏡片拋光；

2. 光學鏡頭、光學玻璃、透鏡等；

3. 手機屏玻璃、手表面（表門）等；