氧化鈰在拋光上的前景

信息和光電子領(lǐng)域的高速發(fā)展促進了化學機械拋光 (CMP)技術(shù)的不斷更新。除了設(shè)備和材料外 , 非常高精度表面的獲取更有賴于研磨粒子的設(shè)計與工業(yè)化生產(chǎn),以及相應的拋光漿料的調(diào)配。而且隨著表面加工精度和效率要求的不斷提高，對拋光材料的要求也越來越高。二氧化鈰在微電子器件和準確光學元器件表面準確加工中已經(jīng)得到廣泛應用。

氧化鈰拋光粉（VK-Ce01）拋光粉因具有切削能力強，拋光效率高，拋光精度高，拋光質(zhì)量好，操作環(huán)境清潔，污染小，使用壽命長等優(yōu)點，而在光學準確拋光和CMP等領(lǐng)域占有較其重要的地位。

氧化是基本性質(zhì)：

二氧化鈰，又稱氧化鈰，為鈰的氧化物，此時鈰的化合價為+4價，化學式為CeO2。純品為白色重質(zhì)粉末或立方體結(jié)晶，不純品為淺顏色甚至粉紅色至紅棕色粉末(因含有微量鑭、鐠等)。常溫、常壓下，二氧化鈰是鈰的穩(wěn)定氧化物。鈰還能形成+3價的Ce2O3，其不穩(wěn)定，會和O2生成穩(wěn)定的CeO2。氧化鈰微溶于水、堿和酸。密度7.132 g/cm3，熔點2600℃，沸點3500℃ 。