真空鍍膜設備行業(yè)不斷發(fā)展，日益更新的技術，讓更多的企業(yè)朋友擺脫了傳統(tǒng)原始的鍍膜手段和方法。無論是整個行業(yè)與國外同行業(yè)相比，還是在本行業(yè)內互相的對比，都暴露了真空鍍膜行業(yè)里面，首先是研發(fā)能力，可以說沒有資金的投入或只有少量資金的投入。研發(fā)能力差，也只是走邊接單，邊設計，邊生產的模式，在某種程度上造成了設備性能的不可靠和工藝的不成熟。技術需要升級改造，雖然近幾年幾個企業(yè)搬遷而有了改觀，但整體的制造水平、工藝水平、檢測水平仍較落后，與國外同行企業(yè)無法相比。舊體制留下來的技術改造問題，恐難在短期內予以消除。設備的陳舊、導致工藝的落后和產品水平的低下，這在行業(yè)內的每個企業(yè)幾乎都存在。管理機制模式的問題。       鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)相關信息在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，用于高能激光****中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時，會產生不同的殺傷應。為了滿足更高的鍍膜要求，迫切需要一種新的技術制備出高質量的鋁鈧旋轉靶材。采用可控氣氛冷噴涂制備鋁鈧旋轉靶材的方法，靶材的相對密度多97%，純度彡99.99%，氧含量200ppm，鈧元素的含量為0.14wt%，其余為銷元素。