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IGZO靶材AZO靶ITO靶氧化鋅靶氧化鈦靶陶瓷靶

產(chǎn)品信息

產(chǎn)品詳細(xì)

我司主要通過氧氣充足燒結(jié)方法、熱等靜壓方法、真空熔煉等方法成型,其中氧氣充足燒結(jié)方法在國內(nèi)處於領(lǐng)先技術(shù),根據(jù)客戶的具體要求加工各種材質(zhì),各種規(guī)格的鍍膜材料,並為客戶提供技術(shù)上的服務(wù)與支援。本公司生產(chǎn)的真空濺射靶材及光學(xué)鍍膜材料主要應(yīng)用於:半導(dǎo)體晶片、裝飾和功能鍍膜工業(yè)、太陽能電池板、據(jù)儲(chǔ)存工業(yè)(光碟工業(yè))、平板液晶顯示器(LCD)、光通訊工業(yè)、玻璃鍍膜(建築玻璃和汽車玻璃)工業(yè)、抗腐蝕抗磨損(表面改性)等行業(yè),品質(zhì)達(dá)到國際較早進(jìn)水準(zhǔn),填補(bǔ)了我國靶材在中、高端製造領(lǐng)域應(yīng)用的空白。氧化鋅(ZnO),氧化鋅鋁(AZO),IZO(In2O3+ZnO),IGZO(In2O3+Ga2O3+ZnO),GZO(Ga2O3+ZnO),ITO(In2O3+SnO2),氧化鈮(NbOx),氧化鋁(Al2O3),,氧化鎂(MgO),氧化硅(SiO),氧化鎳(NiO),氧化鉻(Cr2O3),氧化釔(Y2O3),氧化鑭(La2O3),氧化鈰(CeO2),氧化鉍(Bi2O3),氧化鐵(Fe2O3),二氧化硅(SiO2),二氧化鈦(TiO2),二氧化錫(SnO2),二氧化鋯(ZrO2),二氧化鉿(HfO2),二硼化鎂(MgB2),二硼化鋯(ZrB2),二硼化鈦(TiB2)。硫化鎢(WS2),硫化鉬(MoS),硫化鎘(CdS),硫化鋅(ZnS),碳化硅(SiC),碳化硼(B4C),碳化鈦(TiC),碳化鎢(WC),氮化硅(SiN),氮化硼(BN),氮化鋁(AlN),氮化鈦(Ti3N4),硒化鋅(ZnSe),硒化銦(In2Se3),硒化銅(Cu2Se),氟化鎂(MgF-2),氟化鈉(NaF),氟化鑭(LaF3),鈦酸鐠(PrTiO3),鈦酸鍶(SrTiO3),鈦酸鋇(BaTiO3),鋯鈦酸鉛(PbZrTiO3)。是一家表面改性技術(shù)與真空鍍膜材料研發(fā)的企業(yè):以表面技術(shù)、鍍膜材料和新能源開發(fā)為其研究領(lǐng)域,產(chǎn)品廣泛服務(wù)于各個(gè)高校及高新技術(shù)領(lǐng)域的企業(yè),公司通過多年來應(yīng)用研究及新產(chǎn)品開發(fā),已形成了自己獨(dú)立知識(shí)產(chǎn)權(quán)的技術(shù)和系列產(chǎn)品,同時(shí)公司還擁有一支高素質(zhì)的研發(fā)、生產(chǎn)、管理和銷售隊(duì)伍,與國內(nèi)外多所院校、研究所、企業(yè)有合作關(guān)系。公司現(xiàn)主要從事表面改性、鍍膜材料及高技術(shù)產(chǎn)品研發(fā)。

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