我司生產(chǎn)的精細研磨液是將精選的微米、亞微米級磨料分散在水、油等介質(zhì)中而成，具有良好的研磨拋光性能，主要應(yīng)用于光通信、硅片、光學(xué)晶體、液晶面板、寶石、金相分析等領(lǐng)域。根據(jù)磨料種類產(chǎn)品主要分為金剛石研磨液、碳化硅研磨液、氧化鋁研磨液、氧化鈰研磨液、二氧化硅拋光液（CMP拋光液）。 產(chǎn)品特性 ◆   精選磨料，顆粒形貌規(guī)整、粒度分布集中，具有良好的研磨拋光效果； ◆   磨料分散性和懸浮性良好，使用方便，不會造成工件表面的劃傷； ◆   易清洗，研磨速率穩(wěn)定，拋光一致性好。 產(chǎn)品型號 型號 磨料 粒徑/μm 濃度/% 介質(zhì) PS-SC3 碳化硅 3 50 水 PS-AO2 氧化鋁 2 50 水 PS-AO1 1 50 水 PS-CO1 氧化鈰 1 50 水 PS-CO0.5 0.5 50 水 應(yīng)用領(lǐng)域 ◆   光通訊行業(yè)中陶瓷插芯、塑料MT插芯、光纖陣列的研磨拋光； ◆   光學(xué)玻璃、晶體、LCD基板的精密拋光和修復(fù)； ◆   硅片、化合物半導(dǎo)體硅片、LED藍寶石襯底的拋光。 包裝及儲存 采用高密度聚乙烯瓶包裝，主要包裝是250ml、500ml； 貯存時應(yīng)避免曝曬，貯存溫度為0-40℃，低于0℃可能會結(jié)塊失效。 3．避免敞口長期與空氣接觸。