該機型在多弧離子鍍膜機的基礎(chǔ)上配置圓柱靶或平面磁控靶，設備具備離子鍍的高離化率、高沉積速度的特點，同時也具備磁控濺射低溫、穩(wěn)定的優(yōu)點，適合鍍各種復合膜層，，可以做到多復合膜層一次性完成，膜層具有很高的結(jié)合力、硬度、耐磨系數(shù)，特別適合鐘表、五金刀具、工藝品廠家的IPG、IPS、刀具攙雜、復合膜層的制備。 技術(shù)參數(shù)： 真空箱體：主要規(guī)格有800*1000mm、1000*1200mm，并可以根據(jù)客戶具體要求設計非標產(chǎn)品 夾具方式：采用公自轉(zhuǎn)行星式齒輪結(jié)構(gòu)，工件速度在1-15轉(zhuǎn)/分鐘可調(diào) 控制氣體方式：采用質(zhì)量流量計控制，進氣穩(wěn)定，反映速度快 靶：采用整體制造技術(shù)，嚴格縝密的磁場設計和磁場布局，濺射刻蝕均勻。 電源：配置有高頻直流電源（20KW、40KW等規(guī)格）、直流脈沖電源（電壓、占空比可調(diào)節(jié)），逆變電弧電源，并可根據(jù)實際的情況加裝離子源等輔助設施。 抽真空參數(shù)：從大氣抽至5*10‾³Pa≤15min 極限真空度8*10‾4Pa 控制系統(tǒng) 抽氣系統(tǒng)： 主要配備KT-600蘭州擴散泵。 配備ZJ600羅茨泵以及2X-70旋片泵各一臺。 其他非標產(chǎn)品根據(jù)其真空室大小確定所配備的真空抽氣機組。 也可以根據(jù)客戶的需要配備分子泵等