ITO導電玻璃真空鍍膜流水線 該系統(tǒng)專門針對玻璃鍍ITO膜設計，分為9個真空室：進料室、輝光清洗室、過渡室、SIO2濺射室、過渡室、ITO濺射室、傳輸室、緩沖室、出料室。系統(tǒng)整體設計嚴格，采用分子泵高真空機組，可配備高濺射效率的平面靶或旋轉(zhuǎn)靶，采用直流濺射或中頻濺射，可以率的濺射AL膜、ITO膜、SIO2膜、銀膜、鉻膜、TiO膜等。 一、工藝膜系： 單面結(jié)構(gòu)：Glass/ ITO/SiO2/MoAlMo/ITO/ SiO2 雙面結(jié)構(gòu)：SiO2/MoAlMo/ ITO/Glass/ITO/MoAlMo/ SiO2 二、設備主要技術參數(shù)： 真空連續(xù)式鍍膜流水線配置表 序號 項目 規(guī)格及說明 1 設備主體   1.1 外形尺寸 15.6m*2.4*1.6m（長*寬*高） 1.2 整體重量 17噸 2 傳輸部分   2.1 工件盤尺寸 1210*600mm 2.2 驅(qū)動電機 LENZE MDSKSRS036-13 3 真空系統(tǒng)   3.1 預抽真空組 PAC250+WKP500A 3.2 高真空分子泵 TMH1001和TMH521 3.3 冷凝泵 POLYCOLD PFC-1102HC 4 真空壓力檢測   4.1 皮拉尼規(guī) TPR 265 4.2 全量程檢測真空計 PKR251 4.3 過程壓力測量 MKS Baratron627B  4.4 壓力安全開關 PN3009 5 氣流控制系統(tǒng)   5.1 氣流量控制器 MKS 質(zhì)量流量控制器 6 濺射系統(tǒng)及電源   6.1 輝光清洗電源 霍庭格 TIE 10/100P 6.2 濺射電源 霍庭格 TIG DCS30 6.3 清洗電極尺寸 580*160 6.4 陰極濺射靶尺寸 900*240 7 自動化控制系統(tǒng)   7.1 上位機 SEMITIC PANEL PC670 7.2 可編程控制器 西門子 PROFIBUS 網(wǎng)絡 S-318CPU 8 外圍配置及要求   8.1 電源輸入要求 380V 240KW 8.2 冷水機 K-2-38/5-2 8.3 壓縮空氣 壓力6-7BAR 2-3立方/小時    三、ITO膜層性能： 透過率：≥93% 方電阻：100±10 表面硬度：≥3H 膜層厚度：1500±200A