【中玻網(wǎng)】錫類缺點是浮法玻璃生產(chǎn)過程中特有的一種缺點，也是常見缺點之一。在浮法玻璃成形過程中，錫受環(huán)境中氧和硫的污染，生成錫的氧化物和硫化物，這些化合物揮發(fā)往往聚集在錫槽頂蓋磚及其磚縫處、過渡輥道表面、渣箱內(nèi)壁、退火窯輥道表面、退火窯內(nèi)壁以及玻璃板上、下表面上，從而造成玻璃表面形成顆粒物污染，尤其在高溫區(qū)域易形成不易清洗和去除的顆粒物污染，進而影響玻璃的使用。

　　觀察某浮法生產(chǎn)線更換的過渡輥道的情況，發(fā)現(xiàn)在輥道表面會大量集聚沉積土顏色的物質(zhì)，圖1（a）表明輥道使用60個月后，輥道表面附著物的附著程度，圖1（b）為使用12個月的情況，輥道表面已經(jīng)被附著物覆蓋，渣箱輥道隨著使用周期的延長輥道表面會被逐漸污染，且隨著時間的延長污染程度在不斷加重。

　?。╝）使用60個月的輥道沉積狀況

　　（b）使用12個月的輥道沉積狀況

　　圖1不同使用周期輥道表面沉積物狀態(tài)

　　在冷修時，對過渡輥臺表面和退火窯前端壁面的沉積物進行了取樣分析，圖2、圖3為過渡輥臺沉積物和退火窯前端壁面沉積物的X射線衍射圖，從圖中分析可知，在過渡輥道表面沉積的物質(zhì)為SnO2，同時還含有少量的SnS，退火窯前端壁面的沉積物中只含有SnO2。分析這些沉積物，應該是隨氣流進入渣箱后，接觸到相關(guān)的表面然后沉積下來的。因此來源只能有一種，就是來自錫槽內(nèi)的擴散氣流，也就是說渣箱內(nèi)的錫化合物沉積物的來源與錫槽內(nèi)的氣流密切相關(guān)。

　　圖2過渡輥臺沉積物X射線衍射圖

　　圖3退火窯前端壁面沉積物X射線衍射圖

　　污染物與錫槽內(nèi)氣流的關(guān)系分析，在正常運轉(zhuǎn)的錫槽空間內(nèi)應該大量存在著直徑很小的錫液滴，這些液態(tài)的錫以微小的液滴形態(tài)分布于錫槽內(nèi)的氣流中，隨氣流的流動遷移運動至其它地方。這些小液滴如果沉積在錫槽內(nèi)的冷卻器表面，脫落以后掉落到玻璃表面則形成玻璃缺點；如果這些小液滴隨錫槽內(nèi)氣流進入渣箱和退火窯，由于溫度的變化以及大氣或SO2氣體氧化作用，會形成SnO或SnS沉積在玻璃板表面，污染玻璃板的表面，影響使用，尤其是在玻璃板溫度較高時沉積到玻璃板表面的顆粒物會很難清除，會導致玻璃無法使用。如果沉積在傳輸輥道表面會影響輥道使用狀態(tài)，沉積在渣箱和退火窯的內(nèi)壁上，一旦脫落也會造成對傳輸輥道的污染和損傷，進而對玻璃板的表面造成污染和損傷。不同溫度下錫及其氧化物的揮發(fā)情況見圖4。

　　圖4不同溫度下錫及其氧化物的揮發(fā)情況

　　由圖4可知，錫液中同時存在SnO2的條件下，揮發(fā)量更是急速上升。要特別注意高溫情況下的錫液揮發(fā)問題，重視錫槽高溫區(qū)的錫液揮發(fā)現(xiàn)象對浮法生產(chǎn)帶來的污染物增多問題。

　　預防浮法玻璃錫類污染物的處理措施：

　?。?）減少錫液的暴露面，特別是在中高溫區(qū)的錫液暴露面積。可以采用對暴露錫液表面進行覆蓋的方法來減少錫液的暴露面積，很大限度地減少錫液的蒸發(fā)，減少錫槽空間錫液滴的數(shù)量。

　?。?）在錫槽的高、中溫區(qū)空間內(nèi)采取強化氣流對流措施，加速氣流的流動，同時采用放散排放的方式進行錫槽空間內(nèi)氣流的對流和新鮮保護氣體進行物質(zhì)交換，排放含有錫液滴的氣體，同時引進新鮮保護氣體，這樣有助于降低錫槽空間內(nèi)錫液滴的濃度，減少污染源。

　?。?）在錫槽空間內(nèi)盡量減少強制冷卻器的使用，減少錫液滴的冷凝集聚沉積，注重對冷卻器和錫槽空間的定期清掃，減少污染物集聚；在生產(chǎn)電子級玻璃時錫槽內(nèi)一定要避免使用冷卻器。

　　（4）在活動輥臺、渣箱以及退火窯前區(qū)，要加強氣流的對流排放，減少污染物的沉積集聚，對玻璃板表面和傳輸輥道表面進行保護處理。