使用波長(cháng)覆蓋紫外、可見(jiàn)、紅外光，拋光后透光率高； 根據材料可分為多晶CaF2和單晶CaF2，二者在保護性窗口和普通紅外成像應用過(guò)程，并無(wú)太大區別。但在高質(zhì)量成像和激光方面，大多使用單晶體。單晶CaF2默認方向為《111》，也可根據客戶(hù)要求定向，但會(huì )增加材料損耗，影響價(jià)格； 根據使用波段可分為紫外CaF2和紅外CaF2;應用上紫外材料僅是在紫外波段（190-350nm）有著(zhù)更好的透過(guò)率，其他波段與紅外沒(méi)有太大區別，但因其對材料的應力雙折射和熒光性要求較高，導致原材料純度也相應提高，價(jià)格也有大幅度的上升。      CaF2平面光學(xué)加工指標   項目 常規指標 極限指標 直徑 φ5-150mm+0/-0.2 φ3-150mm+0/-0.2 厚度 1-50mm+/-0.1 0.2-50mm+/-0.02 角精度 3分 5秒 光潔度 60/40 40/20 面形 N<λ/2@633nm（50mm內） N<λ/10@633nm（50mm內） 有效通光孔徑 >90% >95% 倒角 保護性<0.5mmX45度 保護性<0.5mmX45度