本設備為多功能型超高真空等離子增強化學氣相沉積設備主要由全真空專用不銹鋼腔體，分子泵高真空系統(tǒng)，電源，生長機體載體及溫控系統(tǒng)，獨立排氣和生長壓力調節(jié)系統(tǒng)，冷卻循環(huán)水輔助設備等組成。整機結構緊湊、操作方便、抽真空速度快。此設備控制系統(tǒng)采用邏輯按鈕手動控制與工控機自控控制可選。實現(xiàn)真空抽氣和鍍膜工藝一體化功能。此設備可用于制作SiO2、Si3N4、非晶Si：H、多晶Si、SiC、W、Ti-Si、GaAs、GaSb等介電、半導體及金屬膜等