通過真空磁控濺射技術(shù)實現(xiàn)高效鍍膜:在真空腔室內(nèi)，靶材(鍍膜材料)受磁場約束的離子轟擊，濺射出原子或分子，這些粒子沉積到勻速移動的基材表面形成膜。生產(chǎn)線采用多腔室串聯(lián)設(shè)計，基材經(jīng)清洗、鍍膜、后處理等環(huán)節(jié)連續(xù)通過，各腔室獨立控制真空度與氣體成分(如通入氧氣或氮氣合成化合物膜)。傳動系統(tǒng)確?；姆€(wěn)定運行，配合實時膜厚監(jiān)控動態(tài)調(diào)整工藝參數(shù)，保障膜層均勻性:廣泛應(yīng)用于顯示面板、太陽能電池、汽車玻璃等領(lǐng)域。 技術(shù)特點： 大面積鍍膜，多室多靶位，靈活性大; 磁導(dǎo)向傳輸系統(tǒng)，平穩(wěn)可靠; 鍍膜前有離子源對基片進(jìn)行表面清洗和活化，提高附著力，改善膜層質(zhì)量; 真空室加Polycold捕集水蒸汽，提高抽氣能力; 便于維修的側(cè)裝分子泵和全開式真空室門; 自行開發(fā)的方便的用戶易操作控制軟件: 真空室的模塊式設(shè)計，單點定位，便于拆裝。